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Eksma FEMTOLINE未鍍膜薄透鏡-2

簡(jiǎn)要描述:Eksma FEMTOLINE未鍍膜薄透鏡-2
在350-900 nm波長(zhǎng)范圍內(nèi)具有寬帶減反射鍍膜的薄透鏡。

  • 產(chǎn)品品牌:Eksma
  • 廠商性質(zhì):代理商
  • 更新時(shí)間:2021-03-17
  • 訪  問  量:778

產(chǎn)品分類

Product Category

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詳細(xì)介紹

品牌Eksma價(jià)格區(qū)間面議
組件類別光學(xué)元件應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma FEMTOLINE未鍍膜薄透鏡-2


Eksma FEMTOLINE未鍍膜薄透鏡-2

未鍍膜的薄透鏡,用于超短脈沖的應(yīng)用。透鏡可確保低群延遲色散。

產(chǎn)品介紹

Ø非常薄的厚度:邊緣厚度在0.5到1.9mm之間變化

Ø中心厚度從1到3mm不等

Ø平凸或平凹類型

Ø鍍?cè)鐾改 760-840 nm,BBAR鍍膜@ 700-900 nm或UBBAR鍍膜@ 350-900 nm

EKSMA OPTICS推出了適用于飛秒應(yīng)用的Thin Lenses系列。飛秒應(yīng)用通常需要低群延遲色散光學(xué)器件。我們下面定的Thin UVFS鏡片在這種情況下非常理想。

 

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專業(yè)知識(shí)。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,軍事和航空航天市場(chǎng)。

EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品,可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付。

產(chǎn)品型號(hào)

平凸透鏡(ø50.8mm)

型號(hào)

材料

類型

直徑

焦距@ 800NM

CT

ET

半徑

110-1505ET

UVFS

pl/cx

50.8 mm

75 mm

14.0 mm

2.5 mm

34.0 mm

110-1509ET

UVFS

pl/cx

50.8 mm

100 mm

10.3 mm

2.5 mm

45.3 mm

110-1511ET

UVFS

pl/cx

50.8 mm

150 mm

7.4 mm

2.5 mm

68.0 mm

110-1515ET

UVFS

pl/cx

50.8 mm

200 mm

6.1 mm

2.5 mm

90.7 mm

110-1519ET

UVFS

pl/cx

50.8 mm

300 mm

4.9 mm

2.5 mm

136.0 mm

110-1523ET

UVFS

pl/cx

50.8 mm

400 mm

4.3 mm

2.5 mm

181.3 mm

110-1527ET

UVFS

pl/cx

50.8 mm

500 mm

3.9 mm

2.5 mm

226.7 mm

110-1545ET

UVFS

pl/cx

50.8 mm

1000 mm

3.2 mm

2.5 mm

453.3 mm

110-1550ET

UVFS

pl/cx

50.8 mm

1500 mm

3.0 mm

2.5 mm

680.0 mm

110-1555ET

UVFS

pl/cx

50.8 mm

2000 mm

2.9 mm

2.5 mm

906.6 mm

110-1566ET

UVFS

pl/cx

50.8 mm

3000 mm

2.7 mm

2.5 mm

1360.0 mm

110-1568ET

UVFS

pl/cx

50.8 mm

4000 mm

2.7 mm

2.5 mm

1813.3 mm

110-1567ET

UVFS

pl/cx

50.8 mm

5000 mm

2.6 mm

2.5 mm

2266.6 mm

110-1570ET

UVFS

pl/cx

50.8 mm

6000 mm

2.6 mm

2.5 mm

2719.9 mm

平凹透鏡(ø12.7mm)

型號(hào)

材料

類型

直徑

焦距@ 800NM

CT

ET

半徑

112-1104ET

UVFS

pl/cv

12.7 mm

-20 mm

1.0 mm

3.5 mm

-9.1 mm

112-1106ET

UVFS

pl/cv

12.7 mm

-30 mm

1.0 mm

2.5 mm

-13.6 mm

112-1108ET

UVFS

pl/cv

12.7 mm

-40 mm

1.0 mm

2.1 mm

-18.1 mm

112-1109ET

UVFS

pl/cv

12.7 mm

-50 mm

1.0 mm

1.9 mm

-22.7 mm

112-1109MT

UVFS

pl/cv

12.5 mm

-50 mm

1.0 mm

1.9 mm

-22.7 mm

112-1110ET

UVFS

pl/cv

12.7 mm

-60 mm

1.0 mm

1.7 mm

-27.2 mm

112-1110MT

UVFS

pl/cv

12.5 mm

-60 mm

1.0 mm

1.7 mm

-27.2 mm

112-1112ET

UVFS

pl/cv

12.7 mm

-75 mm

1.0 mm

1.5 mm

-34.0 mm

112-1113ET

UVFS

pl/cv

12.7 mm

-80 mm

1.0 mm

1.5 mm

-36.3 mm

112-1115ET

UVFS

pl/cv

12.7 mm

-100 mm

1.0 mm

1.4 mm

-45.3 mm

112-1115MT

UVFS

pl/cv

12.5 mm

-100 mm

1.0 mm

1.4 mm

-45.3 mm

112-1117ET

UVFS

pl/cv

12.7 mm

-125 mm

1.0 mm

1.3 mm

-56.7 mm

112-1119ET

UVFS

pl/cv

12.7 mm

-150 mm

1.0 mm

1.2 mm

-68.0 mm

112-1119MT

UVFS

pl/cv

12.5 mm

-150 mm

1.0 mm

1.2 mm

-68.0 mm

平凹透鏡(ø25.4mm)

型號(hào)

材料

類型

直徑

焦距@ 800NM

CT

ET

半徑

112-1205ET

UVFS

pl/cv

25.4 mm

-50 mm

1.5 mm

5.4 mm

-22.7 mm

112-1209ET

UVFS

pl/cv

25.4 mm

-75 mm

1.5 mm

4.0 mm

-34.0 mm

112-1211ET

UVFS

pl/cv

25.4 mm

-100 mm

1.5 mm

3.3 mm

-45.4 mm

112-1215ET

UVFS

pl/cv

25.4 mm

-125 mm

1.5 mm

3.0 mm

-56.7 mm

112-1217ET

UVFS

pl/cv

25.4 mm

-150 mm

1.5 mm

2.7 mm

-68.0 mm

112-1219ET

UVFS

pl/cv

25.4 mm

-200 mm

1.5 mm

2.4 mm

-90.7 mm

112-1221ET

UVFS

pl/cv

25.4 mm

-250 mm

1.5 mm

2.3 mm

-113.3 mm

112-1223ET

UVFS

pl/cv

25.4 mm

-300 mm

1.5 mm

2.1 mm

-136.0 mm

112-1233ET

UVFS

pl/cv

25.4 mm

-500 mm

1.5 mm

1.9 mm

-226.7 mm

 

 

材料

UV FS

表面質(zhì)量

40-20表面光潔度 (MIL-PRF-13830B)

通光孔徑

90% of the diameter

直徑公差

+0.00, -0.12 mm

厚度公差

±0.2 mm

表面不規(guī)則

λ/8
@ 633 nm

同心度

3 arcmin

近軸焦距

±2% @ 800 nm

 

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專業(yè)知識(shí)。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,軍事和航空航天市場(chǎng)。

EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品,可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付。

EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機(jī)械,帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項(xiàng)業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專業(yè)知識(shí)。

公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,軍事和航空航天市場(chǎng)。

EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品,可以快速實(shí)現(xiàn)現(xiàn)成的交付。

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